Данный аппарат предназначен для научно-исследовательских работ, АСО, МСО и АСТ. Объем рабочего пространства камеры – 1500 см³, общий внутренний диаметр – 179 мм см и высота – 100 мм. Максимальная температура подложки – 250˚C. Пленки могут осаждаться как на плоских подложках (кремниевые подложки диаметром до 140 мм), так и дисперсных материалах (в специальном держателе). В стандартной конфигурации возможно осаждение разнообразных пленок и их смесей, с использованием до 4 прекурсоров одновременно.

Установка предназначена плазма-стимулированного атомно-слоевого осаждения и травления, преимущественного для проведения научно-исследовательских работ, а также для мелкосерийного производства. В качестве подложки могут быть использованы кремниевые и некоторые другие подложки. Плазма генерируется в полом катоде, изготовленном из нержавеющей стали, что также снижает содержание примесей кислорода по сравнению с источниками плазмы, изготавливаемыми с использованием кварцевых трубок как, например, индуктивная плазма. Наличие источника плазмы позволяет осаждать пленки не только термическим способом (АСО, МСО и АСТ), но и плазма-стимулированным (ПС-АСО и ПС-АСТ). Это значительно расширяет спектр осаждаемых материалов. Использование плазмы позволяет значительным образом снизить температуру осаждения или травления некоторых материалов.